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上海交通大學先進電子材料與器件平臺助推微納加工領域攀高峰
2024年11月26日 19:37   來源:中新網(wǎng)上海  

  中新網(wǎng)上海新聞11月26日電(許婧)上海交通大學先進電子材料與器件平臺(以下簡稱“AEMD平臺”)26日迎來十周年慶,同時平臺正式開放二、三期運行。

  AEMD平臺創(chuàng)建于2012年,目標是建立一個服務于全校的微納加工工藝實驗平臺,并面向校外科研院所和企業(yè)開放共享。一期凈化工程于2014年建成并于同年11月正式向校內(nèi)外用戶開放服務,當時建設的工藝線為具有納米尺寸圖形化能力的6英寸無源微納結(jié)構(gòu)與器件加工的科研實驗線,工藝能力涵蓋光刻、薄膜、刻蝕、熱工藝等全鏈式微納加工工藝。十年來平臺為上海交通大學多學科發(fā)展和交叉融合做出了突出貢獻,同時平臺面向國家需求,積極對接校外科研院所和科技企業(yè)的項目需求,助推科研項目基礎與應用研究進程,促進產(chǎn)業(yè)關鍵技術創(chuàng)新與突破。

  面向國家重大需求,服務學校雙一流建設,平臺聚焦微納技術學科前沿,打破學科壁壘,強化交叉融合,突破關鍵核心技術,培養(yǎng)國家急需人才。繼2014年AEMD一期西區(qū)實驗室正式開放運行后,在學校及電院支持下,追加逾3億元投入平臺二、三期建設,建成1200余平米、潔凈度從十級到千級標準的東區(qū)超凈間。現(xiàn)整體擁有近 1800 平米東、西區(qū)兩個凈化實驗室,6、8英寸先進微納加工實驗線各一條,具備多層級光刻圖形化、薄膜生長與沉積、干法刻蝕、濕法清洗與刻蝕、先進封裝、表征與測試等完善的微納加工與測試能力,新增全自動深紫外步進式光刻機、離子注入機、分子束外延、激光誘導玻璃刻蝕、晶圓鍵合等先進的微納加工與封裝設備,有效增強了平臺在有源電/光器件、MEMS、先進三維封裝等領域的科研服務支撐能力。

  中國科學院院士、深圳大學校長、曾任AEMD平臺一期、二期項目負責人毛軍發(fā)特別發(fā)來祝賀視頻,高度肯定平臺建設成果,寄語平臺堅持面向國家重大需求,扎實積累,助推關鍵技術突破。

  近年來,隨著萬物互聯(lián)、人工智能等技術的飛速發(fā)展,對微納技術也提出了更高的要求, AEMD在一期科研條件的支持下,在新型光電器件、MEMS器件等方面提前布局,支撐校內(nèi)外科研團隊在相關領域?qū)崿F(xiàn)突破,取得了豐碩的成果。在此基礎上,面向國家重大需求,服務交大雙一流建設目標,AEMD二、三期又針對有源電/光器件、MEMS、異質(zhì)異構(gòu)先進封裝等方面做前瞻布局,以期將交大微納科學基礎與應用研究能力提升到更高水平。

  AEMD平臺首任主任、長江學者蘇翼凱教授表示,十余年前,AEMD平臺在交大相關學科發(fā)展急需微納加工實驗工藝平臺的背景下應運而生,以服務電子、物理、材料、化工等多學科的原創(chuàng)性和高水平科研為目標一路發(fā)展至今,在光電通信、MEMS、封裝等領域已取得了顯著成果。欲有向上破竹之勢,需有向下扎根之力,蘇翼凱對AEMD平臺十年來取得的成果感慨至深,表示當時立項時的目標,現(xiàn)已成功實現(xiàn),這正是一代代平臺人“不忘初心,向下扎根”的精神體現(xiàn)。

  平臺現(xiàn)任主任程秀蘭介紹平臺現(xiàn)有工藝能力及未來發(fā)展方向。據(jù)悉,平臺新增8英寸級高端微納加工與測試新設備,將有效增強平臺在有源電子/光學材料與器件、三維異質(zhì)集成封裝、MEMS、微納光學、先進納米材料與器件等研究領域的支撐服務能力,助推上海交通大學的微納加工能力從無源器件全面提升到有源器件加工水平。

  十余年來,AEMD平臺不斷精進與創(chuàng)新自身的工藝能力,全力支撐用戶科研攻關,取得了很大的進步。為了展現(xiàn)微納加工領域的匠人匠心,AEMD平臺于會前特向廣大用戶征集科研成果,舉辦學生用戶成果展大賽,并特別設置用戶成果展區(qū),重點展示十年間由平臺支持的代表性用戶科研成果,包括新型光電器件、三維集成存儲系統(tǒng)、超材料能源器件等尖端領域;顒蝇F(xiàn)場,與會領導及嘉賓向獲獎者頒發(fā)榮譽證書,并以此鼓勵平臺用戶不斷產(chǎn)出高水平科研成果。獲獎者表示,平臺不僅是為他們提供技術支持的關鍵力量,更是科研探索中的重要合作伙伴。

  本次活動匯聚了多家科研院所、知名企業(yè)、領域?qū)<壹凹夹g人員參與,部分企業(yè)向平臺捐贈最新科研儀器設備,助力微納極端加工技術的突破。(完)

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編輯:許婧  

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