中新網(wǎng)上海新聞3月12日電(記者 康玉湛) 日前，中微半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司(以下簡(jiǎn)稱“中微公司”)宣布其等離子體刻蝕設(shè)備反應(yīng)總臺(tái)數(shù)全球累計(jì)出貨超過5000臺(tái)。這包括CCP高能等離子體刻蝕機(jī)和ICP低能等離子體刻蝕機(jī)、單反應(yīng)臺(tái)反應(yīng)器和雙反應(yīng)臺(tái)反應(yīng)器共四種構(gòu)型的設(shè)備。

　　據(jù)介紹，中微公司不斷拓展等離子體刻蝕設(shè)備產(chǎn)品線，以滿足先進(jìn)的芯片器件制造日益嚴(yán)苛的技術(shù)需求，特別是CCP和ICP的雙臺(tái)機(jī)，反復(fù)論證了雙反應(yīng)臺(tái)之間刻蝕的線寬差別，1Sigma已達(dá)到0.5納米以下，刻蝕速度已可以精準(zhǔn)到0.1到0.2納米水平，相當(dāng)于頭發(fā)絲直徑約三十萬分之一。中微公司的刻蝕機(jī)已在5納米及更先進(jìn)的微觀器件生產(chǎn)線上大量應(yīng)用。

　　中微公司的CCP高能等離子刻蝕設(shè)備和ICP低能等離子體刻蝕設(shè)備的出貨量近年來都保持高速增長(zhǎng)。CCP設(shè)備在線累計(jì)裝機(jī)量近四年年均增長(zhǎng)大于37%，已突破4000個(gè)反應(yīng)臺(tái)；ICP設(shè)備在線累計(jì)裝機(jī)量近四年年均增長(zhǎng)大于100%，已突破1000個(gè)反應(yīng)臺(tái)。截至2025年2月底，公司累計(jì)已有超過5400個(gè)反應(yīng)臺(tái)在國(guó)內(nèi)外130多條生產(chǎn)線，全面實(shí)現(xiàn)了量產(chǎn)和大規(guī)模重復(fù)性銷售，贏得了眾多客戶和供應(yīng)廠商的信任和支持。

　　據(jù)業(yè)績(jī)快報(bào)顯示，中微公司2024年?duì)I業(yè)收入約90.65億元，較2023年增加約28.02億元。公司在過去13年保持營(yíng)業(yè)收入年均增長(zhǎng)大于35%，近四年?duì)I業(yè)收入年均增長(zhǎng)大于40%的基礎(chǔ)上，2024年?duì)I業(yè)收入又同比增長(zhǎng)約44.73%。其中，刻蝕設(shè)備收入約72.77億元，在最近四年收入年均增長(zhǎng)超過50%的基礎(chǔ)上，2024年又同比增長(zhǎng)約54.73%。

　　未來，中微公司將緊跟先進(jìn)制程工藝發(fā)展的最前沿，繼續(xù)加大研發(fā)投入，在產(chǎn)品設(shè)計(jì)、開發(fā)和制造過程中，始終強(qiáng)調(diào)技術(shù)的創(chuàng)新、產(chǎn)品的差異化和知識(shí)產(chǎn)權(quán)的保護(hù)，不斷開發(fā)更多的高端設(shè)備產(chǎn)品。

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編輯：康玉湛